4腔单晶圆水平电镀工艺设备
4腔单晶圆水平电镀工艺设备
技术特点 Features
· 片内均匀性：＜4%，，，，片间均匀性：＜3%，，重复性：＜3%，，COP：＜10µm。。
· 90%部件本土化，，，，本地软件团队，，，有独立的设计和专利。。。
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